【中國發明,中國發明授權】一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線
無權-未繳年費 中國
- 申請號：
- CN201510103231.X
- 專利權人：
- 常州工學院
- 授權公告日/公開日：
- 2017.04.19
- 專利有效期：
- 2015.03.09-2035.03.09
- 技術分類：
- C23:對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕
- 轉化方式：
- 轉讓
- 價值度指數：
-
- 54.0分
- 價格：
- 面議
發布人
朱錫芳
聯系人朱錫芳
-
- 13011000141
- 專利信息&法律狀態
- 專利自評
- 專利技術文檔
- 價值度指數
- 發明人陣容
著錄項
- 申請號
- CN201510103231.X
- 申請日
- 20150309
- 公開/公告號
- CN104651792A
- 公開/公告日
- 20150527
- 申請/專利權人
- [常州工學院]
- 發明/設計人
- [朱錫芳, 楊輝, 許清泉, 陳功, 徐安成]
- 主分類號
- C23C14/35
- IPC分類號
- C12N 9/0008(2013.01) C12N 9/16
- CPC分類號
- C12N 9/0008(2013.01) C12N 9/16(2013.01)
- 分案申請地址
- 國省代碼
- 江蘇(32)
- 頒證日
- G06T1/00
- 代理人
- [高桂珍]
摘要
本發明公開了一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，屬于鍍膜設備領域。本發明包括開卷室、收卷室和鍍膜真空室，開卷室與鍍膜真空室之間還設有放卷儲料室，收卷室與鍍膜真空室之間還設有收卷儲料室，放卷儲料機構的前方設有熱合機構，收卷儲料機構的后方依次設有切斷機構和基材變向機構；纏繞于兩組開卷輥上的其中一卷基材的一端依次經過熱合機構、放卷儲料機構、前處理機構、冷輥、收卷儲料機構和切斷機構，并經過基材變向機構后纏繞于其中一組收卷輥上。本發明利用開卷的提前備料和收卷的提前備輥，并結合開卷和收卷的儲料機構實現多卷基材的連續鍍制，省去了中間換卷及抽真空的時間，大大提高了鍍膜效率。
法律狀態
| 法律狀態公告日 | 20240319 |
| 法律狀態 | 專利權的終止 |
| 法律狀態信息 | 未繳年費專利權終止 IPC(主分類):C23C 14/35 專利號:ZL201510103231X 申請日:20150309 授權公告日:20170419 終止日期: |
| 法律狀態公告日 | 20220121 |
| 法律狀態 | 專利申請權、專利權的轉移 |
| 法律狀態信息 | 專利權的轉移 IPC(主分類):C23C 14/35 專利號:ZL201510103231X 登記生效日:20220110 變更事項:專利權人 變更前權利人:常州工學院 變更后權利人:常州常工院技術轉移有限公司 變更事項:地址 變更前權利人:213022 江蘇省常州市新北區巫山路1號 變更后權利人:213031 江蘇省常州市新北區遼河路666號 |
| 法律狀態公告日 | 20170419 |
| 法律狀態 | 授權 |
| 法律狀態信息 | 授權 |
| 法律狀態公告日 | 20150624 |
| 法律狀態 | 實質審查的生效 |
| 法律狀態信息 | 實質審查的生效 IPC(主分類):C23C 14/35 申請日:20150309 |
| 法律狀態公告日 | 20150527 |
| 法律狀態 | 公開 |
| 法律狀態信息 | 公開 |
| 事務數據公告日 | 20220121 |
| 事務數據類型 | 專利申請權、專利權的轉移 |
| 轉讓詳情 | 專利權的轉移 IPC(主分類):C23C 14/35 專利號:ZL201510103231X 登記生效日:20220110 變更事項:專利權人 變更前權利人:常州工學院 變更后權利人:常州常工院技術轉移有限公司 變更事項:地址 變更前權利人:213022 江蘇省常州市新北區巫山路1號 變更后權利人:213031 江蘇省常州市新北區遼河路666號 |
權利要求
權利要求數量（9）
獨立權利要求數量（1）
1.一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，包括開卷室(1)、收卷室(22) 和鍍膜真空室(9)，所述的鍍膜真空室(9)內設有前處理機構(10)、冷輥(11)和一個或 一個以上的磁控濺射鍍膜機構(13)，其特征在于：所述的開卷室(1)和收卷室(22)均設 置有兩個，開卷室(1)與鍍膜真空室(9)之間還設有放卷儲料室(6)，收卷室(22)與鍍 膜真空室(9)之間還設有收卷儲料室(15)，兩個所述的開卷室(1)均通過閘板閥(14)與 放卷儲料室(6)相連通，兩個所述的收卷室(22)均通過閘板閥(14)與收卷儲料室(15) 相連通，所述的放卷儲料室(6)與鍍膜真空室(9)之間、收卷儲料室(15)與鍍膜真空室 (9)之間均設有閘板閥(14)；兩個所述的開卷室(1)內各設有一組開卷輥(2)，每組開卷 輥(2)下方各設有一組上料馬鞍機構(3)，兩個所述的收卷室(22)內各設有一組收卷輥(23)， 每組收卷輥(23)下方各設有一組卸料馬鞍機構(24)；所述的放卷儲料室(6)內設有放卷 儲料機構(8)，所述的收卷儲料室(15)內設有收卷儲料機構(16)，所述的放卷儲料機構(8) 的前方設有熱合機構(7)，所述的收卷儲料機構(16)的后方依次設有切斷機構(18)和基 材變向機構；纏繞于兩組開卷輥(2)上的其中一卷基材的一端依次經過熱合機構(7)、放卷 儲料機構(8)、前處理機構(10)、冷輥(11)、收卷儲料機構(16)和切斷機構(18)，并經 過基材變向機構后纏繞于其中一組收卷輥(23)上；兩組開卷輥(2)之后和兩組收卷輥(23) 之前均設有用于基材糾偏的糾偏機構(4)；所述的開卷室(1)、放卷儲料室(6)、收卷儲料 室(15)和收卷室(22)均與設于外部的粗抽泵(25)相連，所述的鍍膜真空室(9)與設于 外部的分子泵組相連。
2.根據權利要求1所述的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其特征 在于：所述的開卷室(1)、放卷儲料室(6)、收卷儲料室(15)和收卷室(22)內均設有攝 像頭(5)，所述的攝像頭(5)均與監控計算機相連。
3.根據權利要求2所述的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其特征 在于：所述的基材變向機構包括推頂機構(19)和基材變向托板(20)，所述的基材變向托板 (20)一端鉸接，一端懸空，所述的推頂機構(19)設于基材變向托板(20)的下方，所述 的推頂機構(19)上升推動基材變向托板(20)向上翻轉，則被切斷機構(18)切斷的基材 進入一個收卷室(22)內，并纏繞于該收卷室(22)內的收卷輥(23)上；所述的推頂機構 (19)下降使基材變向托板(20)恢復水平，則被切斷機構(18)切斷的基材通過基材變向 托板(20)進入另一個收卷室(22)內，并纏繞于該收卷室(22)內的收卷輥(23)上。
4.根據權利要求1或2或3所述的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線， 其特征在于：所述的磁控濺射鍍膜機構(13)包括回轉換靶裝置(133)、與回轉換靶裝置(133) 位置相對應的兩面開口的陰極小室(131)和安裝于回轉換靶裝置(133)上的靶芯(132)， 所述的回轉換靶裝置(133)包括機座(1331)、回轉盤(1334)、驅動回轉盤(1334)轉動的 回轉機構、驅動回轉盤(1334)沿軸向伸縮的軸向伸縮機構(1332)、安裝于回轉盤(1334) 上的兩個或兩個以上的伸縮軸套(1335)、安裝于伸縮軸套(1335)上的用于安裝靶芯(132) 的極靶座板(1336)和安裝于機座(1331)上且與陰極小室(131)的開口方向相對的徑向伸 縮機構(1337)，所述的回轉盤(1334)為設有內腔的桶狀結構，所述的伸縮軸套(1335)安 裝于回轉盤(1334)的側壁上，當軸向伸縮機構(1332)收縮后，所述的徑向伸縮機構(1337) 剛好與一個伸縮軸套(1335)相對應，用于將極靶座板(1336)向外頂出并嵌入陰極小室(131) 內。
5.根據權利要求4所述的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其特征 在于：所述的伸縮軸套(1335)包括內軸(1338)、中間軸套(1339)和外軸套(1340)，所 述的內軸(1338)設于中間軸套(1339)內，且內軸(1338)與中間軸套(1339)之間設有 第一壓縮彈簧(1341)，所述的中間軸套(1339)設于外軸套(1340)內，且中間軸套(1339) 與外軸套(1340)之間設有第二壓縮彈簧(1342)，所述的外軸套(1340)固定安裝于回轉盤 (1334)上。
6.根據權利要求5所述的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其特征 在于：所述的軸向伸縮機構(1332)上還設置有三節筒式導軌(1333)。
7.根據權利要求6所述的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其特征 在于：所述的上料馬鞍機構(3)和卸料馬鞍機構(24)結構相同，均包括馬鞍托架、帶動馬 鞍托架升降的升降運動機構和帶動馬鞍托架平移的水平運動機構，所述的升降運動機構用于 帶動馬鞍托架托舉開卷輥(2)或收卷輥(23)上料或卸料；所述的水平運動機構用于帶動馬 鞍托架托舉開卷輥(2)或收卷輥(23)移進開卷室(1)或移出收卷室(22)，實現室外上卷 或收卷。
8.根據權利要求7所述的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其特征 在于：所述的放卷儲料機構(8)和收卷儲料機構(16)結構相同，均包括換向輥(802)和 可上下移動的升降儲料輥(801)，所述的基材依次來回纏繞于換向輥(802)和升降儲料輥(801) 上，并利用升降儲料輥(801)的上升或下降實現儲存與釋放基材。
9.根據權利要求8所述的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其特征 在于：所述的糾偏機構(4)為超聲波糾偏系統或光電糾偏系統。
1.一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，包括開卷室(1)、收卷室(22)和鍍膜真空室(9)，所述的鍍膜真空室(9)內設有前處理機構(10)、冷輥(11)和一個或一個以上的磁控濺射鍍膜機構(13)，其特征在于：所述的開卷室(1)和收卷室(22)均設置有兩個，開卷室(1)與鍍膜真空室(9)之間還設有放卷儲料室(6)，收卷室(22)與鍍膜真空室(9)之間還設有收卷儲料室(15)，兩個所述的開卷室(1)均通過閘板閥(14)與放卷儲料室(6)相連通，兩個所述的收卷室(22)均通過閘板閥(14)與收卷儲料室(15)相連通，所述的放卷儲料室(6)與鍍膜真空室(9)之間、收卷儲料室(15)與鍍膜真空室(9)之間均設有閘板閥(14)；兩個所述的開卷室(1)內各設有一組開卷輥(2)，每組開卷輥(2)下方各設有一組上料馬鞍機構(3)，兩個所述的收卷室(22)內各設有一組收卷輥(23)，每組收卷輥(23)下方各設有一組卸料馬鞍機構(24)；所述的放卷儲料室(6)內設有放卷儲料機構(8)，所述的收卷儲料室(15)內設有收卷儲料機構(16)，所述的放卷儲料機構(8)的前方設有熱合機構(7)，所述的收卷儲料機構(16)的后方依次設有切斷機構(18)和基材變向機構；纏繞于兩組開卷輥(2)上的其中一卷基材的一端依次經過熱合機構(7)、放卷儲料機構(8)、前處理機構(10)、冷輥(11)、收卷儲料機構(16)和切斷機構(18)，并經過基材變向機構后纏繞于其中一組收卷輥(23)上；兩組開卷輥(2)之后和兩組收卷輥(23)之前均設有用于基材糾偏的糾偏機構(4)；所述的開卷室(1)、放卷儲料室(6)、收卷儲料室(15)和收卷室(22)均與設于外部的粗抽泵(25)相連，所述的鍍膜真空室(9)與設于外部的分子泵組相連。
2.根據權利要求1所述的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其特征在于：所述的開卷室(1)、放卷儲料室(6)、收卷儲料室(15)和收卷室(22)內均設有攝像頭(5)，所述的攝像頭(5)均與監控計算機相連。
3.根據權利要求2所述的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其特征在于：所述的基材變向機構包括推頂機構(19)和基材變向托板(20)，所述的基材變向托板(20)一端鉸接，一端懸空，所述的推頂機構(19)設于基材變向托板(20)的下方，所述的推頂機構(19)上升推動基材變向托板(20)向上翻轉，則被切斷機構(18)切斷的基材進入一個收卷室(22)內，并纏繞于該收卷室(22)內的收卷輥(23)上；所述的推頂機構(19)下降使基材變向托板(20)恢復水平，則被切斷機構(18)切斷的基材通過基材變向托板(20)進入另一個收卷室(22)內，并纏繞于該收卷室(22)內的收卷輥(23)上。
4.根據權利要求1或2或3所述的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其特征在于：所述的磁控濺射鍍膜機構(13)包括回轉換靶裝置(133)、與回轉換靶裝置(133)位置相對應的兩面開口的陰極小室(131)和安裝于回轉換靶裝置(133)上的靶芯(132)，所述的回轉換靶裝置(133)包括機座(1331)、回轉盤(1334)、驅動回轉盤(1334)轉動的回轉機構、驅動回轉盤(1334)沿軸向伸縮的軸向伸縮機構(1332)、安裝于回轉盤(1334)上的兩個或兩個以上的伸縮軸套(1335)、安裝于伸縮軸套(1335)上的用于安裝靶芯(132)的極靶座板(1336)和安裝于機座(1331)上且與陰極小室(131)的開口方向相對的徑向伸縮機構(1337)，所述的回轉盤(1334)為設有內腔的桶狀結構，所述的伸縮軸套(1335)安裝于回轉盤(1334)的側壁上，當軸向伸縮機構(1332)收縮后，所述的徑向伸縮機構(1337)剛好與一個伸縮軸套(1335)相對應，用于將極靶座板(1336)向外頂出并嵌入陰極小室(131)內。
5.根據權利要求4所述的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其特征在于：所述的伸縮軸套(1335)包括內軸(1338)、中間軸套(1339)和外軸套(1340)，所述的內軸(1338)設于中間軸套(1339)內，且內軸(1338)與中間軸套(1339)之間設有第一壓縮彈簧(1341)，所述的中間軸套(1339)設于外軸套(1340)內，且中間軸套(1339)與外軸套(1340)之間設有第二壓縮彈簧(1342)，所述的外軸套(1340)固定安裝于回轉盤(1334)上。
6.根據權利要求5所述的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其特征在于：所述的軸向伸縮機構(1332)上還設置有三節筒式導軌(1333)。
7.根據權利要求6所述的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其特征在于：所述的上料馬鞍機構(3)和卸料馬鞍機構(24)結構相同，均包括馬鞍托架、帶動馬鞍托架升降的升降運動機構和帶動馬鞍托架平移的水平運動機構，所述的升降運動機構用于帶動馬鞍托架托舉開卷輥(2)或收卷輥(23)上料或卸料；所述的水平運動機構用于帶動馬鞍托架托舉開卷輥(2)或收卷輥(23)移進開卷室(1)或移出收卷室(22)，實現室外上卷或收卷。
8.根據權利要求7所述的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其特征在于：所述的放卷儲料機構(8)和收卷儲料機構(16)結構相同，均包括換向輥(802)和可上下移動的升降儲料輥(801)，所述的基材依次來回纏繞于換向輥(802)和升降儲料輥(801)上，并利用升降儲料輥(801)的上升或下降實現儲存與釋放基材。
9.根據權利要求8所述的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其特征在于：所述的糾偏機構(4)為超聲波糾偏系統或光電糾偏系統。
說明書
技術領域
本發明涉及一種鍍膜生產設備，更具體地說，涉及一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線。
背景技術
真空卷繞鍍膜技術就是在真空室內通過熱蒸發或者磁控濺射等方法在卷料基材表面制備一層或者多層具有一定功能的薄膜的技術。真空卷繞鍍膜設備主要有以下特點：其一、被鍍基材為柔性基材，即具有可卷繞性；其二、鍍膜過程具有連續性，即在一個工作周期內鍍膜是連續進行的；其三、鍍膜過程在高真空環境中進行。卷繞鍍膜機在放卷和收卷過程中，基材表面被鍍上薄膜，鍍膜的結構就是真空卷繞鍍膜設備的工作部，它位于基材的收放卷之間，工作部的工作原理可以是電阻蒸發、感應蒸發、電子束蒸發、磁控濺射或者是其它真空鍍膜方法中的任意一種。磁控濺射的工作過程是電子在電場的作用下加速飛向基材薄膜的過程中與濺射氣體氬氣碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基材薄膜，在此過程中不斷地與氬原子碰撞，產生更多的氬原子和電子；氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶材原子(或分子)沉積在基材薄膜表面成膜。
柔性基材廣泛用于有機半導體工藝、透明電極以及觸摸屏當中。近年來隨著對柔性基底鍍膜材料的廣泛需求和柔性基材上磁控濺射技術本身的飛速發展，各種高性能功能膜在大面積柔性基底上鍍制成功。
在對陰極濺射成膜裝置中，卷繞式真空鍍膜設備以其可以連續生產而明顯的提高了成膜的效率，然而，現有的磁控濺射卷繞鍍膜機在一次鍍膜完成后，需要重新更換陰極靶，而換靶都是將真空室打開進行的，這樣在繼續鍍膜之前，又需要重新營造真空等工藝條件，不僅延長了加工周期，而且電力等資源使用較多，不利于實現鍍膜的高效率低成本。另外，現有的鍍膜機在一卷基材鍍制完成后，需要停機更換基材，而基材的準備需要一定時間，且需要將基材由開卷輥引到收卷輥，破壞了真空鍍膜室的工藝環境，且每次更換基材需要浪費一段用于連接開卷輥和收卷輥的基材，而浪費的基材無法重復鍍膜使用，造成基材浪費嚴重、鍍膜成本增加。
發明內容
1.發明要解決的技術問題
本發明的目的在于克服現有磁控濺射卷繞鍍膜設備的上述不足，提供一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，采用本發明的技術方案，利用開卷的提前備料和收卷的提前備輥，并結合開卷和收卷的儲料機構實現多卷基材的連續鍍制，省去了中間換卷及抽真空的時間，大大提高了鍍膜效率，且減少了因換卷而引起的基材浪費，降低了鍍膜成本；同時采用回轉換靶裝置實現了在不打開鍍膜真空室的情況下即可及時快速更換陰極靶，為多卷基材的連續鍍制提供了保障。
2.技術方案
為達到上述目的，本發明提供的技術方案為：
本發明的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，包括開卷室、收卷室和鍍膜真空室，所述的鍍膜真空室內設有前處理機構、冷輥和一個或一個以上的磁控濺射鍍膜機構，所述的開卷室和收卷室均設置有兩個，開卷室與鍍膜真空室之間還設有放卷儲料室，收卷室與鍍膜真空室之間還設有收卷儲料室，兩個所述的開卷室均通過閘板閥與放卷儲料室相連通，兩個所述的收卷室均通過閘板閥與收卷儲料室相連通，所述的放卷儲料室與鍍膜真空室之間、收卷儲料室與鍍膜真空室之間均設有閘板閥；兩個所述的開卷室內各設有一組開卷輥，每組開卷輥下方各設有一組上料馬鞍機構，兩個所述的收卷室內各設有一組收卷輥，每組收卷輥下方各設有一組卸料馬鞍機構；所述的放卷儲料室內設有放卷儲料機構，所述的收卷儲料室內設有收卷儲料機構，所述的放卷儲料機構的前方設有熱合機構，所述的收卷儲料機構的后方依次設有切斷機構和基材變向機構；纏繞于兩組開卷輥上的其中一卷基材的一端依次經過熱合機構、放卷儲料機構、前處理機構、冷輥、收卷儲料機構和切斷機構，并經過基材變向機構后纏繞于其中一組收卷輥上；兩組開卷輥之后和兩組收卷輥之前均設有用于基材糾偏的糾偏機構；所述的開卷室、放卷儲料室、收卷儲料室和收卷室均與設于外部的粗抽泵相連，所述的鍍膜真空室與設于外部的分子泵組相連。
更進一步地，所述的開卷室、放卷儲料室、收卷儲料室和收卷室內均設有攝像頭，所述的攝像頭均與監控計算機相連。
更進一步地，所述的基材變向機構包括推頂機構和基材變向托板，所述的基材變向托板一端鉸接，一端懸空，所述的推頂機構設于基材變向托板的下方，所述的推頂機構上升推動基材變向托板向上翻轉，則被切斷機構切斷的基材進入一個收卷室內，并纏繞于該收卷室內的收卷輥上；所述的推頂機構下降使基材變向托板恢復水平，則被切斷機構切斷的基材通過基材變向托板進入另一個收卷室內，并纏繞于該收卷室內的收卷輥上。
更進一步地，所述的磁控濺射鍍膜機構包括回轉換靶裝置、與回轉換靶裝置位置相對應的兩面開口的陰極小室和安裝于回轉換靶裝置上的靶芯，所述的回轉換靶裝置包括機座、回轉盤、驅動回轉盤轉動的回轉機構、驅動回轉盤沿軸向伸縮的軸向伸縮機構、安裝于回轉盤上的兩個或兩個以上的伸縮軸套、安裝于伸縮軸套上的用于安裝靶芯的極靶座板和安裝于機座上且與陰極小室的開口方向相對的徑向伸縮機構，所述的回轉盤為設有內腔的桶狀結構，所述的伸縮軸套安裝于回轉盤的側壁上，當軸向伸縮機構收縮后，所述的徑向伸縮機構剛好與一個伸縮軸套相對應，用于將極靶座板向外頂出并嵌入陰極小室內。
更進一步地，所述的伸縮軸套包括內軸、中間軸套和外軸套，所述的內軸設于中間軸套內，且內軸與中間軸套之間設有第一壓縮彈簧，所述的中間軸套設于外軸套內，且中間軸套與外軸套之間設有第二壓縮彈簧，所述的外軸套固定安裝于回轉盤上。
更進一步地，所述的軸向伸縮機構上還設置有三節筒式導軌。
更進一步地，所述的上料馬鞍機構和卸料馬鞍機構結構相同，均包括馬鞍托架、帶動馬鞍托架升降的升降運動機構和帶動馬鞍托架平移的水平運動機構，所述的升降運動機構用于帶動馬鞍托架托舉開卷輥或收卷輥上料或卸料；所述的水平運動機構用于帶動馬鞍托架托舉開卷輥或收卷輥移進開卷室或移出收卷室，實現室外上卷或收卷。
更進一步地，所述的放卷儲料機構和收卷儲料機構結構相同，均包括換向輥和可上下移動的升降儲料輥，所述的基材依次來回纏繞于換向輥和升降儲料輥上，并利用升降儲料輥的上升或下降實現儲存與釋放基材。
更進一步地，所述的糾偏機構為超聲波糾偏系統或光電糾偏系統。
3.有益效果
采用本發明提供的技術方案，與已有的公知技術相比，具有如下顯著效果：
(1)本發明的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其纏繞于兩組開卷輥上的其中一卷基材的一端依次經過熱合機構、放卷儲料機構、前處理機構、冷輥、收卷儲料機構和切斷機構，并經過基材變向機構后纏繞于其中一組收卷輥上，利用開卷的提前備料和收卷的提前備輥，且提前達到鍍膜條件，并結合開卷和收卷的儲料機構實現多卷基材的連續鍍制，省去了中間換卷及抽真空的時間，大大提高了鍍膜效率，且減少了因換卷而引起的基材浪費，降低了鍍膜成本；
(2)本發明的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其開卷室、放卷儲料室、收卷儲料室和收卷室內均設有攝像頭，攝像頭均與監控計算機相連，通過攝像頭實現遠程監控鍍膜生產線各個環節的工作狀況，可以及時進行相關操作，減少了工人現場觀察的勞動量；
(3)本發明的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其基材變向機構包括推頂機構和基材變向托板，基材變向托板一端鉸接，一端懸空，推頂機構設于基材變向托板的下方，推頂機構上升推動基材變向托板向上翻轉，則被切斷機構切斷的基材進入一個收卷室內，并纏繞于該收卷室內的收卷輥上；推頂機構下降使基材變向托板恢復水平，則被切斷機構切斷的基材通過基材變向托板進入另一個收卷室內，并纏繞于該收卷室內的收卷輥上；結構簡單，控制方便，實現了準確換輥收卷；
(4)本發明的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其磁控濺射鍍膜機構包括回轉換靶裝置、與回轉換靶裝置位置相對應的兩面開口的陰極小室和安裝于回轉換靶裝置上的靶芯，采用回轉換靶裝置實現了在不打開鍍膜真空室的情況下即可及時快速更換陰極靶，為多卷基材的連續鍍制提供了保障；
(5)本發明的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其回轉換靶裝置具有軸向伸縮機構，可以將使用后的陰極靶移至真空室外部，在一次鍍膜完成后即可在真空室外部進行換靶，便于換靶操作；
(6)本發明的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其伸縮軸套包括內軸、中間軸套和外軸套，內軸設于中間軸套內，且內軸與中間軸套之間設有第一壓縮彈簧，中間軸套設于外軸套內，且中間軸套與外軸套之間設有第二壓縮彈簧，外軸套固定安裝于回轉盤上，伸縮軸套結構簡單、設計巧妙，僅需利用一組徑向伸縮機構即可實現多個極靶的伸出，且徑向伸縮機構收縮后，靶芯可自動退出陰極小室，方便轉動換靶，同時采用兩級伸出結構，保證了靶芯具有足夠的運動行程；
(7)本發明的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其軸向伸縮機構上還設置有三節筒式導軌，確保了軸向伸縮機構具有足夠的剛性，可以伸出較遠的距離；
(8)本發明的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其上料馬鞍機構和卸料馬鞍機構結構相同，均包括馬鞍托架、帶動馬鞍托架升降的升降運動機構和帶動馬鞍托架平移的水平運動機構，升降運動機構用于帶動馬鞍托架托舉開卷輥或收卷輥上料或卸料；水平運動機構用于帶動馬鞍托架托舉開卷輥或收卷輥移進開卷室或移出收卷室，實現室外上卷或收卷；利用上料馬鞍機構和卸料馬鞍機構方便了多卷基材的換輥和收輥，控制方便，減輕了換卷和收卷的勞動量；
(9)本發明的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，其放卷儲料機構和收卷儲料機構結構相同，均包括換向輥和可上下移動的升降儲料輥，基材依次來回纏繞于換向輥和升降儲料輥上，并利用升降儲料輥的上升或下降實現儲存與釋放基材，為換卷換輥提供了足夠的準備時間，保證了多卷基材的連續穩定鍍制。
附圖說明
圖1為本發明的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線的結構示意圖；
圖2為本發明中的放卷儲料機構和收卷儲料機構的原理示意圖；
圖3為本發明中的磁控濺射鍍膜機構的結構示意圖；
圖4為本發明中的回轉換靶裝置的結構示意圖；
圖5為圖4中的局部放大結構示意圖。
示意圖中的標號說明：
1、開卷室；2、開卷輥；3、上料馬鞍機構；4、糾偏機構；5、攝像頭；6、放卷儲料室；7、熱合機構；8、放卷儲料機構；9、鍍膜真空室；10、前處理機構；11、冷輥；12、換向輥；13、磁控濺射鍍膜機構；14、閘板閥；15、收卷儲料室；16、收卷儲料機構；17、輸送壓輥；18、切斷機構；19、推頂機構；20、基材變向托板；21、導向托板；22、收卷室；23、收卷輥；24、卸料馬鞍機構；25、粗抽泵；26、分子泵；27、前級泵；801、升降儲料輥；802、換向輥；131、陰極小室；132、靶芯；133、回轉換靶裝置；134、氣氛隔離板；1331、機座；1332、軸向伸縮機構；1333、三節筒式導軌；1334、回轉盤；1335、伸縮軸套；1336、極靶座板；1337、徑向伸縮機構；1338、內軸；1339、中間軸套；1340、外軸套；1341、第一壓縮彈簧；1342、第二壓縮彈簧。
具體實施方式
為進一步了解本發明的內容，結合附圖和實施例對本發明作詳細描述。
實施例
結合圖1所示，本實施例的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，包括開卷室1、收卷室22和鍍膜真空室9，鍍膜真空室9內設有前處理機構10、冷輥11和一個或一個以上的磁控濺射鍍膜機構13?？紤]到傳統鍍膜設備每次僅能鍍制一卷基材，在鍍制另一卷基材前需要重新抽真空以達到鍍膜工藝條件，從而浪費大量換卷和抽真空的時間，進而降低鍍膜效率的問題，本實施例中采用提前準備待鍍膜基材和待收卷輥筒，并提前使待鍍膜基材和待收卷輥筒達到真空條件，從而解決了傳統鍍膜設備無法連續鍍制多卷基材的問題。具體結構闡述如下：
開卷室1和收卷室22均設置有兩個，一組處于加工狀態，另一組利用加工時間提前準備基材和收卷輥筒，并提前達到真空鍍膜條件，待第一組開卷室1和收卷室22完成鍍膜后，第二組開卷室1和收卷室22可繼續進行鍍膜，第一組開卷室1和收卷室22進入鍍膜準備階段。為了使換卷過程中，鍍膜真空室9不停止鍍膜工作，開卷室1與鍍膜真空室9之間還設有放卷儲料室6，收卷室22與鍍膜真空室9之間還設有收卷儲料室15，在換卷和換輥過程中，鍍膜真空室9仍可利用放卷儲料室6內的儲料繼續鍍膜，利用收卷儲料室15儲存換輥過程中的部分已鍍膜的基材。兩個開卷室1均通過閘板閥14與放卷儲料室6相連通，兩個收卷室22均通過閘板閥14與收卷儲料室15相連通，放卷儲料室6與鍍膜真空室9之間、收卷儲料室15與鍍膜真空室9之間均設有閘板閥14，上述的閘板閥14用于使基材在各個腔室中穿過，并保持各個腔室中的氛圍相對獨立。兩個開卷室1內各設有一組開卷輥2，每組開卷輥2下方各設有一組上料馬鞍機構3，兩個收卷室22內各設有一組收卷輥23，每組收卷輥23下方各設有一組卸料馬鞍機構24，上述的上料馬鞍機構3和卸料馬鞍機構24的結構基本相同，均包括馬鞍托架、帶動馬鞍托架升降的升降運動機構和帶動馬鞍托架平移的水平運動機構，升降運動機構用于帶動馬鞍托架托舉開卷輥2或收卷輥23上料或卸料，水平運動機構用于帶動馬鞍托架托舉開卷輥2或收卷輥23移進開卷室1或移出收卷室22，實現室外上卷或收卷；具體動作過程為，上料馬鞍機構3中的水平運動機構帶動馬鞍托架水平移出開卷室1，在開卷室1外部將開卷輥2安裝于馬鞍托架上，然后水平運動機構帶動馬鞍托架移進開卷室1，并且，升降運動機構帶動馬鞍托架及其上的開卷輥2上升至開卷輥2的安裝夾爪，安裝完成后，升降運動機構帶動馬鞍托架降下，封閉開卷室1，并對其抽真空；同理，卸料馬鞍機構24中的升降運動機構帶動馬鞍托架上升至收卷輥23，收卷輥23的安裝夾爪放開收卷輥23，然后升降運動機構帶動馬鞍托架及其上的收卷輥23下降，并由水平運動機構推出收卷室22外部，取下收卷完成的收卷輥23，換上空的收卷輥23重復上述的安裝步驟。放卷儲料室6內設有放卷儲料機構8，收卷儲料室15內設有收卷儲料機構16，該放卷儲料機構8和收卷儲料機構16結構相同，如圖2所示，均包括換向輥802和可上下移動的升降儲料輥801，基材依次來回纏繞于換向輥802和升降儲料輥801上，并利用升降儲料輥801的上升或下降實現儲存與釋放基材；當升降儲料輥801上升時，基材即可儲存在升降儲料輥801和換向輥802之間；當升降儲料輥801下降時，儲存在升降儲料輥801和換向輥802之間的基材被釋放，為換卷換輥提供了足夠的準備時間，保證了多卷基材的連續穩定鍍制。放卷儲料機構8的前方設有熱合機構7，用于將兩卷開卷輥2上的基材相連接，確保鍍膜連續進行；收卷儲料機構16的后方依次設有切斷機構18和基材變向機構，切斷機構18用于將基材及時切斷，避免收卷輥23上的基材纏繞過多或過少，基材變向機構用于及時改變基材的行走方向，實現收卷換輥；如圖1所示，本實施例中的基材變向機構包括推頂機構19和基材變向托板20，基材變向托板20一端鉸接，一端懸空，推頂機構19設于基材變向托板20的下方，推頂機構19上升推動基材變向托板20向上翻轉，則被切斷機構18切斷的基材進入一個收卷室22內，并纏繞于該收卷室22內的收卷輥23上；推頂機構19下降使基材變向托板20恢復水平，則被切斷機構18切斷的基材通過基材變向托板20進入另一個收卷室22內，并纏繞于該收卷室22內的收卷輥23上，結構簡單，控制方便，實現了準確換輥收卷?；谝陨辖Y構，纏繞于兩組開卷輥2上的其中一卷基材的一端依次經過熱合機構7、放卷儲料機構8、前處理機構10、冷輥11、收卷儲料機構16和切斷機構18，并經過基材變向機構后纏繞于其中一組收卷輥23上，兩組開卷輥2之后和兩組收卷輥23之前均設有用于基材糾偏的糾偏機構4，由于生產線較長，因此還可以在鍍膜生產線的中部設置一組或多組糾偏機構4，確保鍍膜穩定；本實施例中的糾偏機構4為超聲波糾偏系統或光電糾偏系統，糾偏控制精準，誤差小，具體地，對于透明的基材而言，如聚酯膜等，采用超聲波糾偏系統，對于不透明的基帶而言，如金屬薄膜等，采用光電糾偏系統或超聲波糾偏系統，上述的超聲波糾偏系統或光電糾偏系統的糾偏原理為現有技術，在此就不再贅述；另外，基材上還設有多組張緊輥和多組輸送壓輥17，使基材穩定運行。開卷室1、放卷儲料室6、收卷儲料室15和收卷室22均與設于外部的粗抽泵25相連，用于將腔室內的空氣快速抽出；鍍膜真空室9與設于外部的分子泵組相連，該分子泵組包括分子泵26和前級泵27，分子泵26與前級泵27相連后與鍍膜真空室9相連，用于快速達到極限真空狀態，滿足鍍膜要求。
如圖1所示，為了減少工人現場觀察鍍膜進度的勞動量，本實施例中的開卷室1、放卷儲料室6、收卷儲料室15和收卷室22內均設有攝像頭5，攝像頭5均與監控計算機相連，通過攝像頭5實現遠程監控鍍膜生產線各個環節的工作狀況，可以及時進行相關操作，監控方便。
此外，如圖3和圖4所示，本實施例中的磁控濺射鍍膜機構13包括回轉換靶裝置133、與回轉換靶裝置133位置相對應的兩面開口的陰極小室131和安裝于回轉換靶裝置133上的靶芯132，回轉換靶裝置133包括機座1331、回轉盤1334、驅動回轉盤1334轉動的回轉機構、驅動回轉盤1334沿軸向伸縮的軸向伸縮機構1332、安裝于回轉盤1334上的兩個或兩個以上的伸縮軸套1335、安裝于伸縮軸套1335上的用于安裝靶芯132的極靶座板1336和安裝于機座1331上且與陰極小室131的開口方向相對的徑向伸縮機構1337，回轉盤1334為設有內腔的桶狀結構，伸縮軸套1335安裝于回轉盤1334的側壁上，當軸向伸縮機構1332收縮后，徑向伸縮機構1337剛好與一個伸縮軸套1335相對應，用于將極靶座板1336向外頂出并嵌入陰極小室131內。采用回轉換靶裝置133實現了在不打開鍍膜真空室的情況下即可及時快速更換陰極靶，為多卷基材的連續鍍制提供了保障，即無需反復打開鍍膜真空室9換靶。另外，采用軸向伸縮機構1332實現了將靶芯132推出鍍膜真空室9，無需在鍍膜真空室9內部進行靶芯132的更換，操作方便；為了使軸向伸縮機構1332具有足夠的剛性，使回轉盤1334可以伸出較遠的距離，在本實施例中，軸向伸縮機構1332上還設置有三節筒式導軌1333。上述的軸向伸縮機構1332和徑向伸縮機構1337均為電動推桿，回轉機構為步進電機，電動推桿及步進電機的控制方便、定位準確，對鍍膜真空室9內的加工環境不會造成影響。如圖5所示，本實施例中的伸縮軸套1335包括內軸1338、中間軸套1339和外軸套1340，內軸1338設于中間軸套1339內，且內軸1338與中間軸套1339之間設有第一壓縮彈簧1341，中間軸套1339設于外軸套1340內，且中間軸套1339與外軸套1340之間設有第二壓縮彈簧1342，外軸套1340固定安裝于回轉盤1334上，伸縮軸套1335結構簡單、設計巧妙，僅需利用一組徑向伸縮機構1337即可實現多個極靶的伸出，且徑向伸縮機構1337收縮后，靶芯132可自動退出陰極小室131，方便轉動換靶，同時采用兩級伸出結構，保證了靶芯132具有足夠的運動行程。當本實施例中的磁控濺射鍍膜機構13包括多組時，可以在一個鍍膜行程中鍍制多層功能膜，為了保證陰極小室131內的工藝條件良好且穩定，在多個陰極小室131之間還設有如圖3所示的氣氛隔離板134。
本實施例的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，還包括磁控濺射鍍膜的檢測控制系統，包括氣體分析儀、真空計、氣體流量計、光纖感應探頭、張力控制系統及計算機等，氣體分析儀設于陰極小室131內，用于分析陰極小室131內的氣體成分和含量；真空計設于鍍膜真空室9內，用于測量鍍膜真空室9內的氣壓；氣體流量計設于陰極小室131的進氣管道上，用于控制陰極小室131的進氣量；光纖感應探頭伸入陰極小室131中，用于對靶材濺射出來的金屬氧化物氣體進行在線收集分析；張力控制系統設于開卷輥2、冷輥11、收卷輥23以及設于基材上的張緊輥上，用于控制柔性基材的平穩運行；氣體分析儀、真空計、氣體流量計和光纖感應探頭分別于計算機相連，用于對各個工藝參數進行計算和控制。該檢測控制系統與現有技術類似，不是本發明的創新點所在，在此就不再詳述。此外，由于基材為柔性，因此，基材在熱合機構7、切斷機構18及推頂機構19處均設有導向托板21，使基材可以順利到達指定位置。
本實施例的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，加工時，首先將其中一卷開卷輥2上的基材依次穿過熱合機構7、放卷儲料機構8、前處理機構10、冷輥11、收卷儲料機構16、切斷機構18及基材變向機構后纏繞于其中一組收卷輥23上，其中還經過多個換向輥12、張緊輥和輸送壓輥17等；開卷輥2放卷，收卷輥23收卷，此時，放卷儲料機構8儲存一定長度的基材，當一卷開卷輥2放卷完成后，鍍膜真空室9仍然在進行鍍膜加工，即基材仍然在運行，此時放卷儲料機構8將儲存的基材釋放，使該卷基材的末端不動，同時，另一卷開卷輥2開始放卷，當該卷基材運動到熱合機構7時，熱合機構7工作，將兩卷基材的首尾相連，已放卷完成的開卷室1準備新的開卷輥2，基材相連后，開卷輥2加快放卷，并重新儲存于放卷儲料機構8中，儲料完成后，開卷輥2恢復正常加工速度；當一個收卷輥23收卷完成時，切斷機構18工作，將基材切斷，并在基材變向機構作用下進入下一個收卷室22內，由該收卷室22內的收卷輥23開始收卷，由于基材的切斷和換向需要一定時間，因此此時鍍過膜的基材暫時存儲于收卷儲料機構16中，收卷輥23更換完成后，該收卷輥23加速收卷，將收卷儲料機構16中釋放的基材收回，收卷儲料機構16中的基材釋放完成后，收卷輥23恢復正常加工速度。在多卷基材連續鍍膜過程中，為避免靶材不足，采用回轉換靶裝置133提供多組靶芯132，保證了連續鍍膜，大大提高了鍍膜效率。
本發明的一種柔性基材單面連續卷繞磁控濺射鍍膜自動生產線，利用開卷的提前備料和收卷的提前備輥，并結合開卷和收卷的儲料機構實現多卷基材的連續鍍制，省去了中間換卷及抽真空的時間，大大提高了鍍膜效率，且減少了因換卷而引起的基材浪費，降低了鍍膜成本；同時采用回轉換靶裝置實現了在不打開鍍膜真空室的情況下即可及時快速更換陰極靶，為多卷基材的連續鍍制提供了保障。
以上示意性地對本發明及其實施方式進行了描述，該描述沒有限制性，附圖中所示的也只是本發明的實施方式之一，實際的結構并不局限于此。所以，如果本領域的普通技術人員受其啟示，在不脫離本發明創造宗旨的情況下，不經創造性地設計出與該技術方案相似的結構方式及實施例，均應屬于本發明的保護范圍。
價值度評估
技術價值
經濟價值
法律價值
0 0 054.0分
0 50 75 100專利價值度是通過科學的評估模
型對專利價值進行量化的結果，
基于專利大數據針對專利總體特
征指標利用計算機自動化技術對
待評估專利進行高效、智能化的
分析，從技術、經濟和法律價值
三個層面構建專利價值評估體
系，可以有效提升專利價值評估
的質量和效率。
總評：54.0分
該專利價值中等 （僅供參考）
本專利文獻中包含【1 個實施例】、【2 個技術分類】，從一定程度上而言上述指標的數值越大可以反映出所述專利的技術保護及應用范圍越廣。 【專利權的維持時間9 年】專利權的維持時間越長，其價值對于權利人而言越高。 尤其重要是，該專利 【權利轉移1 次】、 都從側面反應出該專利的技術、經濟和法律價值。
技術價值 29.0
該指標主要從專利申請的著錄信息、法律事件等內容中挖掘其技術價值，專利類型、獨立權利要求數量、無效請求次數等內容均可反映出專利的技術性價值。 技術創新是專利申請的核心，若您需要進行技術借鑒或尋找可合作的項目，推薦您重點關注該指標。
部分指標包括：
授權周期（發明）
25 個月獨立權利要求數量
1 個從屬權利要求數量
8 個說明書頁數
7 頁實施例個數
1 個發明人數量
5 個被引用次數
0 次引用文獻數量
0 個優先權個數
0 個技術分類數量
2 個無效請求次數
0 個分案子案個數
0 個同族專利數
0 個專利獲獎情況
無保密專利的解密
否經濟價值 9.0
該指標主要指示了專利技術在商品化、產業化及市場化過程中可能帶來的預期利益。 專利技術只有轉化成生產力才能體現其經濟價值，專利技術的許可、轉讓、質押次數等指標均是其經濟價值的表征。 因此，若您希望找到行業內的運用廣泛的熱點專利技術及侵權訴訟中的涉案專利，推薦您重點關注該指標。
部分指標包括：
申請人數量
1申請人類型
院校許可備案
0 次權利質押
0 次權利轉移
1 個海關備案
否法律價值 16.0
該指標主要從專利權的穩定性角度評議其價值。專利權是一種壟斷權，但其在法律保護的期間和范圍內才有效。 專利權的存續時間、當前的法律狀態可反映出其法律價值。故而，若您準備找尋權屬穩定且專利權人非常重視的專利技術，推薦您關注該指標。
部分指標包括：
存活期/維持時間
9法律狀態
無權-未繳年費
蘇公網安備 32041202001399號
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